Indústria de la microelectrònica

Productes químics electrònics:també es coneix com a materials químics electrònics. Generalment es refereix a l'ús de productes químics especialitzats i materials químics a la indústria electrònica, com ara: components electrònics, plaques de circuits impresos, tot tipus de productes químics i materials utilitzats en l'embalatge i la producció de productes industrials i de consum. Es poden dividir en els següents articles segons les diferents aplicacions: plaques base, fotoresistència, productes químics de galvanoplàstia, material d'encapsulació, reactius d'alta puresa, gasos especials, dissolvents, neteja, agent de dopatge abans de la neteja, màscares de soldadura, àcids i càustics, adhesius especials electrònics i materials auxiliars, etc. Els productes químics electrònics són diversos, amb alts requisits de qualitat, dosificació petita, alta exigència de requisits de neteja ambiental, actualització ràpida del producte, gran entrada neta, alt valor afegit, etc. Aquestes característiques són cada cop més evidents acompanyen el desenvolupament de la tecnologia de micromecanitzat.

Finalitat de la filtració:

per eliminar partícules i impureses col·loïdals;

Requisits de filtració:

1. A causa del fluid de filtració d'alta viscositat, la carcassa del filtre normalment ha de ser capaç de suportar una alta pressió i resistència mecànica

2. El material filtrant ha de tenir una bona compatibilitat;

3. Bona eficiència de filtració per eliminar partícules i impureses col·loïdals.

Configuració de filtració:

La placa de circuit imprès (PCB) també s'anomena placa de circuit imprès i proporciona la connexió elèctrica dels components electrònics. Segons la capa de la placa de circuit, es pot dividir en placa d'un sol panell, placa de doble panell, placa de quatre capes, placa de 6 capes i altres plaques de circuit multicapa.

Finalitat de la filtració:

per eliminar partícules i impureses col·loïdals de l'aigua o del líquid;

Requisits de filtració:

1. Alt cabal, alta resistència mecànica, llarga vida útil.

2. Excel·lent eficiència de filtració.

Configuració de filtració:

Procediment de filtració:

CMP significa poliment químic-mecànic. L'equipament i els consumibles utilitzats en la tecnologia CMP inclouen: màquina de polir, pasta de polir, coixinet de polir, equip de neteja posterior a la CMP, equip de detecció i control de processos de punt final de polit, equip de tractament i proves de residus, etc.

La solució de poliment CMP és un tipus de producte de poliment de metalls d'alta puresa i baixos nivells iònics mitjançant un procés especial de matèria primera en pols de silici d'alta puresa. S'utilitza àmpliament en el poliment d'alta planarització de diversos materials a nanoescala.

Finalitat de la filtració:

per eliminar partícules i impureses col·loïdals;

Requisits de filtració:

1. Substància baixa en solubilitat del medi filtrant, sense pèrdua de medi

2. Bona capacitat per eliminar impureses, llarga vida útil.

3. Alt cabal, alta resistència mecànica

Configuració de filtració:

Procediment de filtració: